WSH紫外明渠
WTV紫外垂直模塊
ZL大型管道式紫外
CLEAR中壓紫外
MOL板式臭氧發生器
UV-AOP高級氧化
D.FITE濾布濾池
ZL大型管道式紫外
CLEAR中壓紫外
UV-AOP高級氧化
Extrem中壓紫外
EX-Ue紫外
EX-UPW-TOC紫外
MOM板式臭氧發生器
MOS板式臭氧發生器
UV-Fenton光芬頓
UV-Oxidation紫外光氧化
EX-L紫外消毒器
EX-U紫外消毒器
ZL大型管道式紫外
CLEAR中壓紫外
One-UV紫外消毒器
Extrem中壓紫外
UV-AOP高級氧化
MOS板式臭氧發生器
COG板式臭氧發生器
UV-Fenton光芬頓
中壓UV-Oxidation紫外光氧化
光解
巴氏消毒替代
光催化
低壓UV-Oxidation紫外光氧化
光選機
并聯機器人
直角坐標機器人
賽博一體化集裝箱污水處理
D.FITE濾布濾池
模塊化污水處理
Modu Ozone板式臭氧
Industry Applications

工業廢水”零排放”(Zero Liquid Discharge, ZLD)已成為中國未來工業綠色低碳轉型的重要選擇。
ZLD旨在通過綜合的水處理技術,實現工業廢水最大限度的回收利用,將最終的液態廢棄物減至最低甚至為零。
在眾多實現ZLD的技術路徑中,高級氧化(UV-AOP)技術扮演著至關重要的角色。

UV-AOP技術因其能產生強氧化性的羥基自由基(.OH),特別適用于處理化工行業中難降解、高毒性的有機廢水,如精細化工、農藥、染料、醫藥中間體等行業的廢水。
UV-AOP常作為深度處理或預處理單元,以提高廢水的可生化性,降低后續生物處理的負荷和毒性沖擊。
電子制造行業,對工藝用水的純度要求極高,超純水 (Ultrapure Water, UPW) 是其生產不可或缺的關鍵物料。
UPW對離子、有機物(TOC) 、微生物、顆粒物和溶解氣體等都有極其嚴格的控制標準(如SEMI標準)。
電子制造過程會產生的種廢水,成分復雜,部分具有高毒性,電子廢水的零排放對紫外高級氧化技術也提出了更高的要求。
臭氧發生器應用
紫外線高級氧化(UV-AOP)應用
紫外線消毒應用
ZLD應用:
紫外線消毒通常作為水回用前的最終保障措施,或在特定處理環節(如去除TOC的輔助手段、防止生物膜滋生)中應用。
臭氧主要用于廢水的深度氧化(降解COD、TOC) 、脫色、除臭、提高可生化性,以及作為某些高級氧化過程(如O3/H2O2)的組分。
UV-AOP是難生物降解有機污染物的關鍵技術之一,它能夠將這些頑固污染物分解,從而提高整個ZLD系統的處理效率和確保出水水質。
MOL板式臭氧發生器
ONYX-MOL板式臭氧發生器采用模塊化設計,根據產氣量可積木式(Blocks)拼裝,結構緊湊。
采用高純度鋁基陶瓷電極,超強抗氧化微弧氧化工藝,系統性能穩定可靠,超低衰減率。均勻微間隙高頻放電,高效節能20~35%,臭氧濃度0~240mg/L可調,節氧高達40%。
電源上電自啟動設計,全程無需人為干預。運行過程自我檢測診斷,異常處理及智能恢復,運行狀態邊緣計算與云服務協調。
CLEAR中壓紫外
ONYX-Clear-SZ管道式中壓紫外消毒器,采用中壓多譜段紫外燈,不僅實現DNA/RNA的破壞,同時破壞其細胞內的酶及蛋白質,殺菌更為徹底。用于消毒殺菌和降解水中亞硝基二甲胺、1,4-二噁烷、內分泌干擾物(EDCs)、殘留農藥、藍藻毒素、GSM(土臭素)和2-MIB(二甲基異茨醇)等有毒微污染物質。
另外,將O3、H2O2等氧化劑與紫外光結合,如UV-O3、UV-H2O2等工藝,可以用于處理污水中CC14、多氨聯苯等難降解物質和有機物的氧化去除。
UV-Fenton光芬頓
光芬頓是一種結合了傳統芬頓反應與光化學激發的高級氧化技術(AOPs),通過紫外輻照顯著增強芬頓體系的氧化能力,實現對難降解有機污染物的高效礦化。其核心在于利用光能加速鐵離子的循環并促進更多羥基自由基(·OH)的生成。其在降低鐵泥產量、提升反應速率、降低運行成本方面的優勢顯著,尤其適合處理高濃度、高毒性工業廢水。
UV-AOP高級氧化
紫外高級氧化技術(UV-AOP)是一種利用紫外線輻射引發氧化反應的環境友好型技術。其核心在于利用紫外光激發氧化劑產生強氧化能力的自由基,進而降解有機物和無機污染物,具有高效、環保、無二次污染等特點。根據不同的氧化劑種類,紫外高級氧化技術可分為多種系統,其中最為常見的包括UV/過氧化氫、UV/臭氧、UV/氯等系統。
ONYX-Clear-SZ-AOP 可以作為UV-AOP技術的紫外光源。這款紫外線高級氧化系統可用于分解亞硝基二甲胺、1,4-二噁烷、內分泌干擾物(EDCs)、殘留農藥、藍藻毒素、GSM(土臭素)和2-MIB(二甲基異茨醇)等有毒微污染物質。